Effects of crystalline defects on degradation of SiC devices
- 提供方法
- 本サイト上にてダウンロード・閲覧可
- 形態
- 価格
- 一般価格(税込):¥1,100 会員価格(税込):¥880
- 文献番号
- 20214364
- 文献・情報種別
- その他の国際会議
No.H2.4
- 掲載ページ
- 1-4(Total 4 p)
- 発行年月
- 2021年 5月
- 出版社
- (公社)自動車技術会
- 言語
- 英語
- イベント
- 第5回電動車両技術国際会議 EVTeC 2021【オンライン開催】
書誌事項
カテゴリ(英) | Power Semiconductor and Packaging Technologies 翻訳 |
---|---|
著者(英) | 1) Masashi Kato |
勤務先(英) | 1) Nagoya Institute of Technology |
抄録(英) | Silicon carbide (SiC) metal oxide semiconductor field effect transistors (MOSFETs) are promising for power devices in electric and hybrid electric vehicles. However, at present, reliability of SiC MOSFETs is still an important issue to be solved. One of the origins for degradation of SiC MOSFETs performance is expansion of basal plane dislocations (BPDs) to single Shockley stacking faults (1SSF). The expansion of 1SSFs proceeds to the epitaxial layer of SiC MOSFETs and 1SSFs act as resistive components and degrade MOSFET performance, and thus we need to suppress the expansion of BPDs. In this paper, we report on carrier recombination lifetime in 1SSF and SiC epitaxial layers to find the suppression methods of 1SSF expansion. 翻訳 |